摘要
隨著技術(shù)的進(jìn)步和新型電鍍光劑的開發(fā),HDI板的盲孔填孔技術(shù)有了新的發(fā)展,即:點(diǎn)鍍填孔電鍍優(yōu)化為整板填孔電鍍。本文主要介紹了依據(jù)現(xiàn)有的工藝能力以及客戶要求,對(duì)不同類型HDI板選取不同的工藝流程,從而達(dá)到縮短工藝流程、節(jié)約生產(chǎn)成本、確保生產(chǎn)品質(zhì)、提高生產(chǎn)效率的目的。
隨著HDI板市場需求量的增大,未來HDI市場占有量的競爭,又將會(huì)是HDI板品質(zhì)、技術(shù)、成本控制的競爭。而由于HDI板原來的生產(chǎn)工藝不僅流程復(fù)雜、生產(chǎn)成本高,而且生產(chǎn)周期長、準(zhǔn)時(shí)交貨率低。為了能夠降低HDI板的生產(chǎn)成本、減少工藝流程、縮短生產(chǎn)周期,HDI板的盲孔電鍍技術(shù)有了新的發(fā)展,即:盲孔填平技術(shù)由原來的點(diǎn)鍍填孔電鍍優(yōu)化為目前的整板填孔電鍍。新的盲孔電鍍技術(shù)不僅能夠降低生產(chǎn)成本,而且還可以有效的改善HDI板的生產(chǎn)品質(zhì),更能夠提升HDI板的準(zhǔn)時(shí)交貨率。
但是,由于不同的HDI板客戶的設(shè)計(jì)要求不盡相同,為了成本控制,以及品質(zhì)保證,必須要設(shè)計(jì)合理的生產(chǎn)工藝流程。本文通過對(duì)不同類型的HDI板進(jìn)行分析,再根據(jù)客戶的要求,設(shè)計(jì)出不同種類的HDI板所需的合適生產(chǎn)工藝流程。
2.點(diǎn)鍍填孔電鍍與整板填孔電鍍流程對(duì)比
2.1名詞解釋
點(diǎn)鍍填孔電鍍:沉銅、全板電鍍后,使用干膜將板面覆蓋,然后制作盲孔鍍孔圖形,并通過曝光顯影,將盲孔位置開窗,其他地方全部被干膜覆蓋,最后進(jìn)行電鍍,將盲孔填平。
整板填孔電鍍:沉銅后,使用專用的填孔藥水進(jìn)行填孔電鍍,將盲孔填平。
2.2兩種流程盲孔填孔結(jié)果對(duì)比
由切片圖1及圖2兩種填孔流程分析可知,舊流程填孔后,由于盲孔的銅厚高出一部分,使用砂帶磨板將其磨平時(shí),砂帶磨板對(duì)盲孔孔口的銅帽具有較強(qiáng)的拉扯力,將會(huì)造成盲孔底部脫墊開路報(bào)廢(圖3)。而新流程填孔后,盲孔的上面銅厚相同的,不僅可以減少盲孔鍍孔圖形、褪膜、砂帶磨板三個(gè)流程,縮短了生產(chǎn)流程、降低了生產(chǎn)成本;而且能夠有效的改善砂帶磨板造成的開路報(bào)廢現(xiàn)象。
3.整板填孔電鍍反應(yīng)原理介紹
整板填孔電鍍主要作用原理是超等角電沉積模式。電鍍銅在盲孔底部的電沉積速率大于表面的沉積速率。三種光劑在盲孔底部、表面的分布如圖4。
圖4 整板填孔電鍍反應(yīng)原理
根據(jù)電鍍光劑的特性及電化學(xué)原理,三種光劑的作用原理為:
(1)由于整平劑帶正電,最易吸附在孔口電位最負(fù)的位置,并且其擴(kuò)散速率較慢因此在孔底位置整平劑濃度逐漸降低;
(2)加速劑的作用為減小極化,促進(jìn)銅的沉積、細(xì)化晶粒,主要在在低電流密度區(qū)域富集,并且其擴(kuò)散速率快,因此孔底加速劑濃度逐漸升高;
(3)在孔口電位最負(fù),同時(shí)對(duì)流最強(qiáng)烈,整平劑將逐漸替代抑制劑加強(qiáng)對(duì)孔口的抑制。
新型整板填孔電鍍被廣泛應(yīng)用于HDI板的盲孔填孔。但是不同類型的HDI板所選擇的工藝流程也不相同;應(yīng)當(dāng)根據(jù)不同的客戶要求,設(shè)計(jì)合適的HDI板工藝流程。
4.1HDI板內(nèi)層整板填孔電鍍流程研究
根據(jù)HDI板階數(shù)的定義,每制作一次盲孔算作HDI板的一階,以現(xiàn)有的技術(shù)HDI板每制作一階需要進(jìn)行一次壓合。因此,非最后一次壓合的制作,均稱為內(nèi)層整板填孔電鍍。
4.1.1內(nèi)層只有盲孔的HDI板
內(nèi)層只有盲孔的HDI板,是指第一次壓合后,內(nèi)層不需要制作埋孔,只需制作盲孔,通過盲孔與其他層的線路相連接。壓合結(jié)構(gòu)圖如圖5、圖6。
對(duì)于內(nèi)層只有盲孔,且為非疊孔設(shè)計(jì)的HDI板,內(nèi)層盲孔可以無需完全填平,只需鍍夠盲孔孔銅要求即可;而對(duì)于有疊孔設(shè)計(jì)的HDI板,必須將內(nèi)層盲孔完全填平。
盲孔不需填平時(shí),使用的電鍍參數(shù)可以保證盲孔孔銅滿足要求,且保證內(nèi)層表銅大于等于17.1μm,小于34.3μm;盲孔需要填平時(shí),使用的電鍍參數(shù)不僅可以保證盲孔填平,而且可以保證內(nèi)層表銅厚度大于等于34.3 μm。由于非疊孔設(shè)計(jì)時(shí),盲孔不需填平,不能走減銅流程,因此當(dāng)內(nèi)層盲孔為非疊設(shè)計(jì),且內(nèi)層完成銅厚要求為34.3 μm時(shí),內(nèi)層盲孔也按填平制作。針對(duì)以上兩種不同類型的內(nèi)層HDI板,根據(jù)內(nèi)層完成銅厚的不同,設(shè)計(jì)的工藝流程如下。
(1)當(dāng)盲孔非疊孔設(shè)計(jì),且內(nèi)層完成銅厚為17.1 mm時(shí):
內(nèi)層圖形制作→壓合→棕化→激光鉆孔→退棕化→沉銅→整板填孔電鍍→切片分析→內(nèi)層圖形→內(nèi)層蝕刻→內(nèi)層AOI→后工序
(2)盲孔疊孔設(shè)計(jì):且內(nèi)層完成銅厚為17.1 mm時(shí):
內(nèi)層圖形制作→壓合→棕化→激光鉆孔→退棕化→沉銅→整板填孔電鍍→切片分析→減銅→內(nèi)層圖形→內(nèi)層蝕刻→內(nèi)層AOI→后工序
(3)內(nèi)層完成銅厚為17.1 mm時(shí),內(nèi)層疊孔和非疊孔設(shè)計(jì),盲孔均按填平制作
內(nèi)層圖形制作→棕化→壓合→棕化→激光鉆孔→退棕化→沉銅→整板填孔電鍍→切片分析→內(nèi)層圖形→內(nèi)層蝕刻→內(nèi)層AOI→后工序
由以上分析可知,當(dāng)內(nèi)層盲孔為疊孔設(shè)計(jì)時(shí),為了保證盲孔填平必須使用較大的填孔參數(shù)將盲孔填平,然后,再將表銅減到要求的厚度。因此,以上是三種流程中,根據(jù)調(diào)整填孔參數(shù)的不同,從而控制完成表銅的厚度。
4.1.2內(nèi)層同時(shí)具有盲孔和埋孔工藝流程研究
此種類型的內(nèi)層HDI板共有四種類型分別為:埋孔和盲孔均為非疊孔(圖7)、盲孔疊孔和埋孔非疊孔(圖8)、埋孔疊孔和盲孔非疊孔(圖9)、盲孔和埋孔均為疊孔(圖10)。
僅要考慮盲孔的填平度,而且更重要的是滿足埋孔的孔銅要求,而此種類型的內(nèi)層表銅厚度要求通常情況下為34.3μm。
整板填孔電鍍流程只能生產(chǎn)埋孔厚徑比≤6:1的板,對(duì)于埋孔厚徑比>6:1的板,必須使用鍍孔流程才能保證埋孔孔銅滿足要求。而對(duì)于埋孔厚徑比>6:1的板,必須使用鍍孔流程才能保證埋孔孔銅滿足要求。因此,需要將盲孔與埋孔分開制作,即:先將盲孔填平,然后再使用鍍孔將埋孔孔銅鍍夠。
由于盲孔均按填平制作,因此盲孔為疊孔或是非疊孔對(duì)流程設(shè)計(jì)沒有影響。只考慮埋孔為疊孔或是非疊孔的兩種類型,其具體的工藝流程如下。
(1)埋孔厚徑比≤6:1時(shí),埋孔非疊孔。
內(nèi)層圖形制作→棕化→壓合→棕化→激光鉆孔→退棕化→內(nèi)層鉆孔→沉銅→整板填孔電鍍→切片分析→內(nèi)層圖形→內(nèi)層蝕刻→內(nèi)層AOI→棕化(2)→壓合→后工序
(2)埋孔厚徑比≤6:1時(shí),埋孔疊孔。
內(nèi)層圖形制作→棕化→壓合→棕化→激光鉆孔→退棕化→內(nèi)層鉆孔→沉銅→整板填孔電鍍→切片分析→樹脂塞孔→砂帶磨板→減銅→不織布拋光→沉銅→全板電鍍→內(nèi)層圖形→內(nèi)層蝕刻→內(nèi)層AOI→棕化(2)→壓合→后工序
(3)埋孔厚徑比>6:1時(shí),埋孔非疊孔。
內(nèi)層圖形制作→棕化→壓合→棕化→激光鉆孔→退棕化→內(nèi)層鉆孔→沉銅→整板填孔電鍍→全板電鍍→切片分析→內(nèi)層圖形→內(nèi)層蝕刻→內(nèi)層AOI→棕化(2)→壓合→后工序
(4)埋孔厚徑比>6:1時(shí),埋孔疊孔。
內(nèi)層圖形制作→棕化→壓合→棕化→激光鉆孔→退棕化→沉銅→整板填孔電鍍→切片分析→減銅→內(nèi)層鉆孔→沉銅→全板電鍍→鍍孔圖形→鍍孔→切片分析→褪膜→樹脂塞孔→砂帶磨板→沉銅(2)→全板電鍍(2)→內(nèi)層圖形→內(nèi)層蝕刻→內(nèi)層AOI→棕化(2)→壓合→后工序
由以上流程分析可知,埋孔非疊孔的設(shè)計(jì),可以使用壓合填膠的方式代替樹脂塞孔的方式, 壓合填膠技術(shù)需要使用高含膠量的PP。雖然此種高含膠量的PP單價(jià)比一般的PP要高出2倍左右,但是使用壓合填膠技術(shù)可以節(jié)省生產(chǎn)流程,減少樹脂的使用,綜合考慮成本因素后,使用此技術(shù)可以有效的節(jié)約成本,縮短HDI板的生產(chǎn)周期。