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深聯(lián)電路板

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線路板化學(xué)藥水面臨新挑戰(zhàn)

文章來(lái)源:百能網(wǎng)作者:龔愛(ài)清 查看手機(jī)網(wǎng)址
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人氣:7074發(fā)布日期:2016-08-05 10:03【

    線路板在前端設(shè)計(jì)與后期制造過(guò)程中出現(xiàn)的新技術(shù)、新方法與新材料,推進(jìn)國(guó)內(nèi)線路板產(chǎn)業(yè)從工廠向市場(chǎng)轉(zhuǎn)型升級(jí)。新材料、新技術(shù)的應(yīng)用,對(duì)基礎(chǔ)的化學(xué)材料也會(huì)有新的要求,那么在線路板生產(chǎn)過(guò)程中所需的化學(xué)藥水又將面臨哪些新的挑戰(zhàn)? 
    新材料的應(yīng)用,RoHS對(duì)有害物質(zhì)的限用,無(wú)鉛焊接及多次回流焊的要求,以及綠色生產(chǎn)的節(jié)能減排等要求,使得應(yīng)用在線路板生產(chǎn)流程中比重最大的化學(xué)藥水——— 從內(nèi)層氧化到表面最終涂覆等20多個(gè)工序,都面臨新的變化和挑戰(zhàn)。 

    1.所提供的化學(xué)藥水必須滿足WEEE、RoHS等國(guó)內(nèi)外綠色產(chǎn)品的各種規(guī)范的要求,不含任何被禁物質(zhì)。必須提供符合要求的相應(yīng)的檢測(cè)/檢驗(yàn)報(bào)告。原來(lái)含鉛、氰化物的藥水必須更新?lián)Q代,如進(jìn)行無(wú)氰化金、無(wú)鉛化鎳、無(wú)甲醛和無(wú)EDTA(乙二胺四乙酸)體系的化學(xué)沉銅等產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)。 
    2.無(wú)鹵材料,低CTE(熱膨脹系數(shù))材料和高Tg(玻璃態(tài)轉(zhuǎn)化溫度)等各種不同類(lèi)型材料的應(yīng)用,傳統(tǒng)的黑氧和棕氧化工藝很難確保提供無(wú)鹵材料能經(jīng)多次無(wú)鉛回流焊接,氧化后處理和新型氧化工藝將是最佳的選擇。含有各種填充材料的基材以及高Tg材料除對(duì)膠渣和化學(xué)沉銅工藝提出挑戰(zhàn),必須改進(jìn)現(xiàn)有產(chǎn)品工藝以能徹底清除鉆孔膠渣,提高化學(xué)沉銅的覆蓋率和與孔壁的結(jié)合力。鈀體系的孔金屬化直接電鍍工藝不僅能適應(yīng)各種材料并具有高覆蓋率和高可靠性?xún)?nèi)層互連,而且不含甲醛、EDTA和氰化物,是生產(chǎn)的最佳選擇之一。 
    3.無(wú)鉛及無(wú)鉛高溫焊接及多次回流焊要求線路板表面涂覆層必須不含鉛,而且在高溫焊接及多次回流焊后仍需具有很好的可焊性能。傳統(tǒng)的有鉛HASL(熱風(fēng)焊料平整)工藝將完全被無(wú)鉛HASL、OSP(有機(jī)焊料防護(hù))、化學(xué)鎳金、化學(xué)鎳鈀金、化學(xué)錫和化學(xué)銀取代。同時(shí)為滿足鉛高溫焊接及多次回流焊,OSP、化學(xué)錫和化學(xué)銀的產(chǎn)品和工藝也在不斷改進(jìn)。 
    4.開(kāi)發(fā)新的化學(xué)產(chǎn)品和優(yōu)化工藝以減少工藝流程,提高產(chǎn)品品質(zhì)以達(dá)到節(jié)能減排、減廢的要求:導(dǎo)電聚合物的金屬化孔工藝不僅無(wú)甲醛和無(wú)EDTA,而且不含任何金屬(如銅)和絡(luò)合劑,易清洗,廢水排放少而且極易處理,從而真正達(dá)到無(wú)毒無(wú)害的目的?;瘜W(xué)錫工藝的四價(jià)錫再生和二價(jià)銅處理系統(tǒng)不僅能使廢液的排放減少50%,而且品質(zhì)穩(wěn)定,產(chǎn)品合格率高,生產(chǎn)成本可降低30%。 
    5.開(kāi)發(fā)物理方法或物理加化學(xué)方法以滿足降低污染的需求,如印制技術(shù)、納米技術(shù)等。

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通訊手機(jī)HDI
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板材:EM825
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最小線寬:0.075mm
最小線距:0.075mm
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型號(hào):GHS04K03404A0
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最小線寬:0.076mm
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最小孔徑:0.1mm
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5G模塊PCB
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最小線寬:0.102mm
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P1.5顯示屏HDI
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型號(hào):GHS04C03605A0
層數(shù):4層一階
所用板材:EM825
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尺寸:24mm*116mm
最小盲孔:0.1mm
最小埋孔:0.2mm
最小線寬:0.13mm
最小線距:0.097mm
表面處理:沉金
外形公差:+0.05/-0.15mm(板內(nèi)無(wú)定位孔)
特殊要求:燈窩

間距:P1.5

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型號(hào):GHS04C03429A0
階層:4層一階
板材:EM825 
板厚:1.6mm
尺寸:215.85mm*287.85mm
最小盲孔:0.1mm
最小埋孔:0.2mm
最小線寬:0.152mm
最小線距:0.152mm
表面處理:沉金
外形公差:+/-0.15mm(板內(nèi)無(wú)定位孔)
特殊要求:控深鉆帽子電鍍

間距:P2.571

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型號(hào):GHM08C03113A0
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板材:EM825
板厚:1.6mm
尺寸:239.9mm*239.9mm
最小盲孔:0.1mm
最小埋孔:0.2mm
最小線寬:0.127mm
最小線距:0.127mm
表面處理:沉金
外形公差:+0.05/-0.15mm(板內(nèi)無(wú)定位孔)
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間距:P1.9

P1.923顯示屏HDI
P1.923顯示屏HDI

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階層:6層二階
板材:EM825 
板厚:2.0mm
尺寸:199.85mm*299.85mm
最小盲孔:0.1mm
最小埋孔:0.2mm
最小線寬:0.127mm
最小線距:0.127mm
表面處理:沉金
外形公差:+0.15/-0.05mm(板內(nèi)無(wú)定位孔)
特殊要求:控深鉆

間距:P1.923

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